您所在的位置:首頁 > 行業(yè)解決方案 > 半導(dǎo)體 > 滴定溶液在半導(dǎo)體行業(yè)的應(yīng)用
上海弗霓生物科技有限公司專業(yè)為環(huán)境檢測行業(yè)用戶提供實(shí)驗(yàn)室試劑耗材解決方案 滴定溶液在各行業(yè)的應(yīng)用非常廣泛 滴定法分析方法簡單 半導(dǎo)體行業(yè)包括硅片生產(chǎn) 由于不同工藝流程使用化學(xué)品種類的不同,會對同類化學(xué)品稀釋得到不同濃度的藥液,或者不同種類的化學(xué)品混配,以滿足特定工藝段的應(yīng)用需求。因此無論是在電子化學(xué)品的生產(chǎn)端和使用端,都涉及到對于化學(xué)品實(shí)際濃度的直接測定,確保使用的化學(xué)品濃度符合工藝段的需求,以避免影響生產(chǎn)。 在常規(guī)的電子化學(xué)品測試過程中,一般采用電位滴定儀法對其濃度進(jìn)行測定,針對單組份樣品的測定選擇合適的滴定劑和方法即可。下面介紹幾種常用的檢測方法 過氧化氫在半導(dǎo)體行業(yè)起到非常關(guān)鍵的作用 如對于雙氧水溶液 方法:取0.1~0.5g雙氧水,加DI水至錐形瓶20mL刻度 緩沖刻蝕液主要用來刻蝕晶圓上深槽的SiO2氧化膜。氧化膜的腐蝕速度在溫度一定時(shí) 方法參照SJ/T11636-2016 電子工業(yè)用顯影液中四甲基氫氧化銨的測定電位滴定法。 可以根據(jù)不同酸的pKa值不同分別加以測定。 方法一 ,主要應(yīng)用是鋁刻蝕液原料監(jiān)控:刻鋁酸含量測定,(4%HNO3、75%H3PO4、10%HAc)滴定劑(0.2 M KOH-2-Isopronal)溶劑:乙醇:丙二醇=1:1 原因:樣品在生產(chǎn)中帶入了鋁等其它離子會影響測定。 第一步:利用氧化還原法,采用0.1N 硫酸亞鐵銨滴定HNO3溶劑:硫酸-水(4:1)。 第二步:利用酸堿滴定,采用0.5N NaOH滴定H3PO4 和 HAc用飽和氯化鈉水溶液作溶劑:V1是硝酸+磷酸的第一個(gè)H,V2是HAc磷酸的第二個(gè)H。 滴定溶液在半導(dǎo)體行業(yè)中的應(yīng)用是廣泛且重要的。它不僅能夠確保化學(xué)工藝的穩(wěn)定性和產(chǎn)品質(zhì)量的可靠性 弗霓科技專業(yè)定制各種大包裝滴定溶液,嚴(yán)選原材料和包材,配置溶液精度可達(dá)0.1%,以滿足您生產(chǎn)的需要。 更多產(chǎn)品型號詳詢上海恒奇儀器儀表有限公司。
方法:精密稱取適量樣品,加入50ml水稀釋,用0.1mol/L氫氧化鈉進(jìn)行滴定,滴定過程中有兩個(gè)突躍,第一個(gè)突躍為HF的滴定終點(diǎn),第二個(gè)突躍為氟化銨的滴定終點(diǎn)。
HF的pKa為3.45,NH4+的pKa為9.25,所以第一個(gè)突躍為HF的滴定終點(diǎn),第二個(gè)突躍為NH4F的滴定終點(diǎn)。根據(jù)HF和NH4+解離平衡常數(shù)的區(qū)別,采用一步滴定即可測定HF和NH4F的濃度。
方法:精密稱取適量樣品(精確到0.0001g),置于滴定杯中,加入50mL去離子水,用0.1N鹽酸滴定液進(jìn)行滴定,以第一個(gè)等當(dāng)點(diǎn)計(jì)算四甲基氫氧化銨含量。
方法二 ,主要應(yīng)用是鋁刻蝕液生產(chǎn)槽監(jiān)控——分步滴定,